折射率、吸收率和消光系数是表征材料光学性质的重要参数,它们描述了光与物质相互作用的基本规律。 NS-30 高性价比白光干涉膜厚仪是一款基于光学干涉原理的高精度测量设备,能够实现折射率、吸收率和消光系数的精确测量。具体测量方法和操作流程如下: 一、测量原理
NS-30 采用垂直入射高稳定宽波段光的光学干涉原理,当光束入射到样品表面时,在各膜层之间产生光学干涉现象。反射光经过光谱分析以及回归算法可计算出薄膜各层的厚度、折射率、反射率等参数。
测量步骤
1、准备工作
- 确保仪器放置在平稳的台面上,避免振动和温度变化影响
- 保持环境干燥无尘,避免强光直接照射仪器
- 检查光学元件清洁度,避免指纹和污渍
2、样品放置
- 将待测样品放置在测量台上,确保表面清洁平整
- 调整样品位置,使其与光学系统保持稳定的接触
- 避免手指直接接触样品表面,防止污染
3、参数设置
- 根据样品特性选择合适的波长范围(190-1700nm)
- 设置测量范围:1nm-250μm,根据实际厚度选择合适量程
- 调整光斑大小至1.5mm,确保测量区域准确
4、启动测量
- 启动仪器进行测量,单次测量时间小于1秒
- 通过自研PolarX分析软件实时显示测量结果
- 记录和分析返回光的光谱数据
5、数据处理
- 软件自动生成2D和3D的厚度、折射率、反射率分布图
- 采用核心算法进行数据拟合和计算
- 输出薄膜厚度、折射率、消光系数等参数
二、关键参数测量
1、折射率测量
通过分析不同波长下的干涉条纹变化,结合已知的薄膜厚度,可以精确计算出材料的折射率。NS-30采用群折射率测量方法,能够准确获得色散介质中的折射率信息。
2、吸收率与消光系数
- 吸收率:通过测量透射光和反射光的强度比来计算
- 消光系数:结合折射率和吸收率数据,通过Kramers-Kronig关系计算得到
- 系统能够同时测量透明或半透明膜层的这些光学参数
3、测量精度保证
(1)技术指标
- 厚度测量精度:1nm或0.2%
- 重复精度:0.02nm
- 稳定性:0.05nm
- 测量速度:<1秒/次
(2)影响因素控制
- 环境因素:控制温度、湿度变化,避免振动干扰
- 光源稳定性:采用卤钨灯+氘灯组合,确保光源稳定性
- 算法优化:核心算法,提高大跨度膜厚测量精度
三、应用优势
NS-30 高性价比白光干涉膜厚仪具有非接触测量、高精度、快速测量等优势,特别适用于:
- 半导体晶圆膜厚测量
- 光学薄膜折射率分析
- 多层复合薄膜各层厚度测量
- 透明或半透明材料的消光系数测定
通过上述方法,NS-30能够实现纳米级至微米级薄膜的折射率、吸收率和消光系数的精确测量,为材料研究和工业质量控制提供可靠的技术支持。
